IT之家 11 月 1 日讯息,左证 DigiTimes 报谈,Samsung Foundry 副总裁 Jeong Gi-Tae 表现,三星行将推出 SF1.4(1.4 nm)工艺中 比特派官网,bitpie是哪个国家的,纳米片(nanosheets)的数目从 3 个增多到 4 个,有望光显改善性能和功耗。
三星正在寻求扩大其在 Gate-All-Around (GAA) 平台方面的特别地位,在推出基于 GAA 的 SF3E 之后,计较 2027 年上线 SF1.4(1.4nm)工艺,通过增多纳米片数目进一步改善工艺。
每个晶体管增多纳米片数目,不错增强驱动电流,从而进步性能 比特派官网,bitpie是哪个国家的,更多的纳米片允许更多的电流流过晶体管,从而增强其开关智商和运转速率。
此外,更多的纳米片不错更好地端正电流,这有助于减少走电流,从而裁汰功耗。此外,转换的电流端正还意味着晶体管产生的热量更少,从而进步了功率效果。
IT之家此前报谈,三星还计较在 1.4nm 工艺中遴荐背部供电(BSPDN)工夫 比特派官网,bitpie是哪个国家的,旨在更好地挖掘晶圆后面空间的后劲,但于今仍未在公共范围内奉行。
天然当今半导体行业已不再使用栅极长度和金属半节距来为工夫节点进行系统定名,但毫无疑问当今的工艺工夫亦然数字越小越先进。
跟着半导体工艺微缩道路不休地上前发展,集成电路内电路与电路间的距离也不休缩窄,从而对彼此产生骚扰,而 BSPDN 工夫则不错克服这一放胆,这是因为咱们不错欺骗晶圆后面来构建供电道路,以分隔电路和电源空间。
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